JF-2型勞厄晶體分析儀能夠提供穩(wěn)定的X射線光源,特點(diǎn)是利用可控硅和集成電路自動(dòng)控制系統(tǒng)進(jìn)行調(diào)流調(diào)壓,從而獲得一個(gè)強(qiáng)而穩(wěn)定的射線光源.該機(jī)射線發(fā)生器功率大,整機(jī)穩(wěn)定性高,操作簡單,可靠性強(qiáng),防護(hù)完善,可與各種射線照相機(jī)一起構(gòu)成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源.，廣泛用于冶金,機(jī)械,電子,化工,地質(zhì),,能源,等科研、企業(yè)、大專院校.
該X射線晶體分析儀，主要用于研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)。如：單晶定向、檢驗(yàn)缺陷、物質(zhì)定性、測定點(diǎn)陣參數(shù)、測定殘余應(yīng)力等。
主要參數(shù)：
|
電 源 |
AC220V 50HZ 30A |
|
功 率 |
2 KW |
|
靶 材 |
Cu（可選其他靶材） |
|
管電壓 |
50 KV（分檔可調(diào)） |
|
管電流 |
50 mA（分檔可調(diào)） |
|
穩(wěn)定度 |
±1% |
|
保 護(hù) |
過功率、過電壓、過電流、無水 |
|
冷 卻 |
循環(huán)水、制冷水箱 |
|
防 護(hù) |
鉛有機(jī)玻璃與金屬結(jié)構(gòu)防護(hù)罩 |
|
相 機(jī) |
A：德拜相機(jī)（粉沫相機(jī)）大、小兩種;) B:勞厄相機(jī)（平板相機(jī)）
（相機(jī)裝底片 ；暗室洗底片）上述兩種相機(jī)，用戶可自行選配置 | |
